1．無横物質，セラミックスを通した物質観

　1.1　宇宙における物質の創成
　1.2　太陽系と物質
　1.3　地球の構成物質とセラミックス
　1.4　生命体とセラミックス

2.文明を支えてきたセラミックス

　2.1　人類の文明とセラミックス
　2.2　火の発見と土器の創製，陶器への移行
　2.3　ニューセラミックスへの展開
　2.4セラミックスの資源

3．現代社会とセラミックス

　3.1　日常生活とセラミックス
　3.2　スペーステクノロジーとセラミックス
　　3.2.1　概　　説
　　3.2.2　セラミックス材料のスペーステクノロジーへの応用
　　　［1］　熱防護とセラミックス
　　　[2]　セラミックスのその他の応用―エレクトロニクスヘの応用―
　　3.2.3　セラミックス材料開発展望
　3.3　原子力とセラミックス
　3.4　ライフサイエンスとセラミックス
　　3.4.1　概　説
　　3.4.2　医用セラミックス
　　3.4.3　アパタイトとライフサイエンス
　　3.5　期待されるセラミックスの探索
　　3.5.1　機能別技術開発の焦点
　　　[1]　機械的機能に関する主組成
　　　[2]　熱的機能に関する主組成
　　　[3]　化学的機能に関する主組成
　　　[4]　光機能に関する主組成
　　　[5]　電気的機能に関する主組成
　　　[6]　生体機能に関する主組成
　　3.5.2　今後のセラミックス技術への要請
　　3.5.3　技術出現の可能性のアセスメント

　1.1　概　説
　1.2   結　晶
　　1.2.1　結晶構造解析の基礎理論
　　　[1]　結晶の対称性
　　　[2]　結晶構造の解析法
　　（A）�]繰回折法による結晶構造解析
　　（B）電子線回折法による結晶構造解析
　　1.2.2　セラミックス構成結晶の結晶構造
　　　[1]　組成の簡単なセラミックス構成結晶の結晶構造
　　　[2]　ケイ酸塩の結晶構造
　1.3　ガ　ラ　ス
　　1.3.1　ガラス構造の特徴
　　1.3.2　ガラス構造解析の基礎理論
　　［1］動径分布法
　　［2］�]埠発光スペクトルのケミカルシシフト
　　1.3.3　ガラス構造
　1.4　非晶質物質非
　　1.4.1　非晶質固体の構造

2．焼結理論

　2.1　概　　説
　2.2　焼結の躯動力
　　2.2.1　曲面に働く力
　　2.2.2　曲面上の蒸気庄と溶解度
　　2.2.3　曲面下の空孔濃度
　　2.2.4　粒界エネルギーとその影響
　　2.2.5　その他の駆動力
　2.3　物質移動の機構と焼結のモデル
　　2.3.1　物質移動機構の種類
　　2.3.2　焼結のモデルとステージ
　　2.3.3　初期焼結モデルと物質移動機構別の速度式
　　　[1]　粘性流動による焼結
　　　[2]　塑性流動による焼結
　　　[3]粒界拡散機構による初期焼結
　　　[4]体積拡散による初期焼結速度
　　　[5]表面拡散による焼結
　　　[6]蒸発―疑縮機構
　　　[7]その他
　　　[8]一般式による実験結果の整理と物質移動機構の判定
　　　[9]各種機構の重畳による複合焼結
　2.4　中期および末期結晶のモデルと粒子の合体・成長
　　2.4.1 中期焼結モデル
　　2.4.2末期焼結（Final Stage Sintering）
　2.5　結晶粒子の成長と粒界の移動
　　2.5.1　1次再結晶
　　2.5.2　一般の粒成長（normal grain growth）
　　2.5.3　第2相粒子の粒成長への影響
　　［1］動きにくい不純物粒子の場合
　　［2］不純物粒子や気孔がかなり動きやすい場合
　　2.5.4　異常粒成長あるいは2次再結晶
　　2.5.5　まとめと今後の問題点
　2.6　焼結体組織の形成と制御
　　2.6.1　初期充填密度の影響
　　2.6.2　有害な粒成長の抑制
　　2.6.3　速度制御焼結（Pate Controlled Sintering）
　2.7　その他の焼結モデル
　　2.7.1　液相を伴う焼結
　　2.7.2　濡れ性の改良
　　2.7.3　ホットプレス（Hot press）など

3．微粒子の焼結と物性

　3.1　概　　説
　3.2　微粒子の焼結
　　3.2.1　微粒子の初期焼結過程
　　3.2.2　中期，終期焼結
　　3.2.3　焼結性と化学結合
　3.3　機械的性質
　3.4　電気的性質
　3.5　磁気的性質

4．相　平　衡

　4.1　気相一固相間平衡
　　4.1.1　雰囲気
　　4.1.2　分解平衡
　　4.1.3　蒸発平衡
　4.2　高温高圧水の状態について
　　4.2.1　高温高圧水の状態と性質
　　4.2.2　セラミック材料の合成への利用
　　4.2.3　将来の展望
　4.3　熱力学
　　4.3.1　熱力学の諸関数
　　4.3.2　第2法則と平衡の条件
　　4.3.3　多成分系と活量
　　4.3.4　熱力学データとTempered Gibbs Energy

5．相転移，化学反応速度論

　5.1　スピノダル分解・分相
　　5.1.1　分相の2つの機構
　　5.1.2　イムミッシビリティ・ドームとコヒーレントな歪み　
　　5.1.3　スピノタル分解の古典論，Cahn−Cook理論
　　5.1.4　原子間相互作用距離Rが最隣接原子間距離より大きいときのスピノダル分解
　　5.1.5　ガラスのスピノダル分解の特徴と解析
　　5.1.6　形態学（morphology）
　　5.1.7　スピノデル分解のまとめ
　　5.1.8　核生成についてのコメント
　5.2　核生成と成長
　　5.2.1　核生成
　　5.2.2　過冷却と過飽和
　　5.2.3　均一核生成速度
　　　[1]　気相、液相からの核生成
　　　[2]　誘導期間と核生成
　　　[3]　結晶界面
　　5.2.4　不均一核生成とエピタクシー
　　　[1]　古典的核生成理論
　　　[2]原子論的核生成理論
　　5.2.5　固相からの不均一核生成
　　5.2.6　トポタクシーと核生成
　　5.2.7　粒子の成長
　　　［1］気相，液相からの粒成長
　［2］樹枝状結晶の成長
　　［3］固相の熱分解と粒成長
　　［4］結晶粒の成長と異常成長
　5.3　相転移
　　5.3.1　変移型相転移
　　　[1]　マルテンサイト変態
　　　[2]　強誘電体
　　　[3]　磁性体
　　　[4]　SiO2
　　5.3.2　拡散型相転移
　　　[1]　合金の規則一不規則転移
　　　[2]　化合物の規則一不規則転移
　　　(A)　陽イオンの規則一不規則転移
　　　(B)　空格子点の規則一不規則転移
　　　(C)　格子間原子の規則一不規則転移
　　5.3.3　高圧下の相転移
　　5.3.4　微粒子の相転移
　　［1］変移型転移
　　［2］拡散型転移
　5.4　固体の反応
　　5.4.1　固体一気体反応
　　［1］気体庄の影響
　　［2］不純物の影響
　　［3］界面反応が律速の場合
　　5.4.2　固体一回体反応
　　［1］反応速度および反応機構
　　［2］粉末反応
　　［3］不純物の影響
　　［4］結晶学的関連−トポタクシー
　5.5　結晶成長
　　5.5.1　成長様式の分類
　　5.5.2　溶液からの単結晶育成法の原理
　　　[1]　疑似2成分系の相平衡
　　　[2]　異組成媒体を用いた帯械溶融法による分解溶融化合物，均質組成固溶体単結晶の育成
　　5.5.3　結晶成長の過程と界面
　　［1］界面への物質移動
　　［2］成長界面の原子スケールでの形状
　　［3］成長界面上での活性種の安定サイトへの組み込み
　　5.5.4　育成結晶中の組成変動の成因とセル構造
　　［1］セル構造の特徴
　　［2］セル構造の発生機構
　　［3］セル構造の防止法
　5.6　熱分解
　　5.6.1　反応の過程
　　　[1]　昇温時の反応
　　　[2]　定温における反応の進行
　　　[3]　反応機構
　　5.6.2　生成物の状態
　　　[1]　分解のトポタクシー
　　　[2]　生成物の拉径と格子の歪み
　　　[3]分解過程における生成物の焼結
　　　[4]原料母塩の化学種，調整法による生成物の差違
　　5.6.3　熱分解法による化合物の合成
　　　[1]　混合物の分解
　　　[2]　共沈させた塩の分解
　5.7　メカノケミストリー
　　5.7.1　メカノケミカル反応
　　5.7.2　徴粉砕過程における構造変化
　　5.7.3　微粉砕過程における新しい表面の発生と内部エネルギーの増加
　　5.7.4　メカノケミカル効果による活性化
　5.8　格子欠陥と拡散
　　5.8.1　欠陥の種類とその膿度
　　［1］ショトキー型およびフレンケル型の欠陥生成
　　　[2]　点欠陥の膿度
　　5.8.2　点欠陥の拡散係数
　　5.8.3　イオンの拡散係数
　　5.8.4　促進拡散
　　5.8.5　化学拡散と相互拡散
　［1］相互拡散
　［2］化学拡散
　　5.8.6　重要な拡散関連過程とその解析例
　［1］酸化物を通しての酸素ガスの透過率および金属の高温酸化反応
　［2］高温でのファイバーや円筒状空隙の形状不安定性
　［3］温度勾配下での拡散と組成の不均一性の出現
　［4］セラミックス中の水素の拡散と透過率
　5.9　転位と塑性変
　 5.9.1 転位の概念
　　5.9.2　セラミックスと金属での転位挙動の差
　　5.9.3　転位す／ヾl）に必要な臨界応力
　［1］パイエルスカ
　［2］熱活性化による転位の移動
　　5.9.4　すべり系（slip system）
　　5.9.5　多結晶の変形と独立なすベり系の数
　　5.9.6　バーガース・ベクトル
　　5.9.7　転位の運動を妨げる2次的要因
　［1］静電荷の問題
　［2］不定比性（ノンストイキオメトり−）の影響
　［3］不純物の効果
　［4］徴構造の効果
　　5.9.8　セラミックスの塑性変形は可能か
　　5.9.9　さらにセラミックスを硬くするには
　［1］加工による影響
　［2］不純物硬化（固溶硬化）
　［3］析出硬化
　5.10　高温クリ−プ
　　5.10.1　転位上昇によるクリープ
　　5.10.2　拡散クリ−プ
　　5.10.3　支配的なクリープ機構の領域
　　5.10.4　クリープの実例
　5.11　ガラスの形成
　　5.11.1　グラスの位置づけ
　　5.11.2　熱力学的考察
　　5.11.3　速度論的考察
　　5.11.4　ガラスを形成する方法

6．セラミックスの組織と微細構造

　6.1　解析技術の進歩
　　6.1.1はじめに
　　6.1.2　解析手法の分類
　　　[1]　組成分離方法
　　　(A)　化学的分離方法
　　　(B)　物理的分離方法
　　　[2]　組成分析，同定方法
　　　(A)　マクロキャラクター
　　　(B)　ミクロキャラクター
　　6.1.3　特徴ある2，3の手法における進歩
　　　[1]　螢光�]線分析
　　　[2]　誘導高周波プラズマ発光分光分析
　　　[3]　レーザーマイクロ発光分光分析
　　　[4]　固体質量分析
　　　[5]　分析電子顕微鏡
　　　[6]　電子分光分析
　　　(A) �]線光電子スペクトル分析（�]PS）
　　　(B) オージェ電子分光分析（AES）
　　　[7]　高分解能電子薪微鏡
　　　[8]　カソードルミネッセンス分析（CL）
　　6.1.4　まとめ
　6.2　多結晶体
　　6.2.1　Characterizationの重要性
　　6.2.2　組織と微細構造の基礎
　［1］組　　織
　　　[2]　結晶の微細構造
　　　[3]　粒界の微細構造
　　　[4]　表面の微細構造
　　6.2.3　エレクトロセラミックスの組織と微細構造
　　　[1]　結晶粒の微細構造
　　　[2]　粒界の特性利用
　　　[3]　表面の特性利
　6.3　結晶化ガラス
　　6.3.1　結晶化ガラスとは
　　6.3.2　製造工程
　　6.3.3　結晶化過程
　6.4　多孔体
　　6.4.1　細孔容積
　　6.4.2　細孔の形態と細孔径
　　6.4.3　比表面積
　6.5　複合セラミックス
　　6.5.1　（粒子一粒子）複合セラミックス
　［1］チタン酸塩コンデンサ材料
　［2］高温導電性材料
　　6.5.2（粒子一粒界）複合セラミックス
　　　[1]　透光セラミックス
　　　[2]　粒界絶縁形コンデンサ
　　　[3]　正特性サーミスタ
　　　[4]　酸化亜鉛バリスタ
　　　[5]　超硬工具材料
　　6.5.3　その他の複合セラミックス

1．材料の熱的性質

　1.1熱伝導度
　　1.1.1　　熱伝導度の定義
　　1.1.2　熱伝導度のメカニズム
　　　[1]　電　　子
　　　[2]　格子振動
　　　[3]　放　　射
　　1.1.3　複合材の熱伝導
　　1.1.4　熱伝導度の測定法
　1.2　熱膨張
　　1.2.1　熱膨張率の定義
　　1.2.2　結晶構造，比熱と熱膨張　
　　1.2.3　複合体の熱膨張
　　1.2.4　熱膨張率測定法

2．材料の機械的性質

　2.1　かたさ
　　2.1.1　各種かたさ試験法
　　　[1]　ビッカースかたさ
　　　[2]　ヌ←プかたさ
　　　[3]　ロックウェルかたさ
　　　[4]　ブリネルかたさ
　　　[5]　引っ掻きかたさ
　　　[6]　ショアかたさ
　　2.1.2　かたさの物理的意義
　　　[1]　マイヤーの法則
　　　[2]　球圧子による材料の変形
　　　[3]　角錐および円錐庄子による材料の変形
　　　[4]　動的かたさ測定の物理的意義
　　　[5]　かたさと他の機械的性質との関係
　　　[6]　各種かたさ値の間の関係
　　　[7]　かたさと塑性，脆性との関係
　2.2　セラミックスの強度と破壊
　　2.2.1　完全結晶と実在結晶の強度
　　2.2.2　破壊力学
　　2.2.3　破壊予測
　　2.2.4　破面解析（フラクトグラフイ）
　　　[1]　粒内と粒界破壊
　　　[2]　破壊発生源
　　　[3]　遅い亀裂の成長
　　2.2.5　組織と強度
　　2.2.6　高温強度
　2.3　強化理論
　　2.3.1　材料の選択
　　2.3.2　共存副成分
　　2.3.3　組織のコントロール
　　2.3.4　表面応力状態のコントロール
　　2.3.5　表面きずのコントロール
　　2.3.6　ガラスの結晶化
　　2.3.6　複合化
　2.4　耐熱衝撃性
　　2.4.1　熱衝撃抵抗
　　2.4.2　種々の理論抵抗係数
　　　[1]　破壊抵抗係数
　　　[2]　損傷抵抗係数
　　　[3]　クラック安定係数
　　2.4.3　熱衝撃破壊統一理論
　　2.4.4　統一理論と実験との対比
　　　[1]　初期クラックが小さい場合
　　　[2]　初期クラックが大きい場合
　　　[3]　強度変化におよぼす急熱と急冷の効果の比較
　　2.4.5　むすび

3．材料の化学的性質

　3.1　吸着性
　　3.1.1　吸着の概念
　　　[1]　物理吸着
　　　[2]　化学吸着
　　3.1.2　吸着量の測定法
　　3.1.3　吸着理論
　　　[1]　単分子膜吸着説
　　　[2]　多分子層吸着説
　　3.1.4　吸着等温線
　　3.1.5　吸着熱と湿潤熱
　　3.1.6　酸化物の水の吸着構造
　　3.1.7　酸化物の水に対する吸着性
　　3.1.8　化学吸着熱および物理吸着熱
　　3.1.9　吸着エントロピー
　　3.4.10　表面の不均一性と吸着性
　　3.4.11　有機溶媒の吸着性
　　3.4.12　吸着剤
　　　[1]　活性炭
　　　[2]　シリカゲル
　　　[3]　活性アルミナ
　　　[4]　合成ビオライト
　　3.1.13　粒界への偏析
　3.2　触媒作用
　　3.2.1　金属酸化物と酸・塩基性質
　　3.2.2　酸・塩基触媒作用
　　3.2.3　混合酸化物の酸点の発現
　　3.2.4　酸点，塩基点生成に影響する因子
　　　[1]　熱処理による影響
　　　[2]　調製法の影響
　　3.2.5　混合酸化物の触媒としての応用
　　3.2.6　アルカリ土類酸化物の触媒作用
　　3.2.7　ゼオライト，粘土系の触媒作用
　3.3　耐食性
　　3.3.1　耐火物の損傷
　　3.3.2　溶　　解
　　3.3.3　濡れと浸透
　　3.3.4　雰囲気
　　　[1]　酸化雰囲気
　　　[2]　還元雰囲気
　　　[3]　真　　空
　　3.3.5　おわりに　

4．電気的，磁気的性質とセラミック電子材料

　4.1　電子物性とその材料
　　4.1.1　電気伝導理論（金属）
　　　[1]　電子一電子散乱
　　　[2]　格子振動一電子の散乱
　　　[3]　磁気モーメントによる散乱
　　　[4]　random系での散乱
　　　［5］パーコレーンョンの理論
　　　[6]　金属一絶縁体転移
　　4.1.2　電気伝導理論（半導体）
　　　[1]　格子振動による伝導電子の散乱
　　　[2]　磁性体での易動度
　　　[3]　ポーラロン
　　　[4]　トンネル効果
　　4.1.3　格子欠陥と原子価制御
　　　[1]　内因性・非化学量論的格子欠陥
　　　[2]　外因性・非化学量論的結晶
　　　[3]　外因性化学量論的格子欠陥
　　4.1.4　微細構造伝導体
　　　[1]　微細構造と電気伝導
　　　[2]　ZnO−Bi2O3バリスタ
　　　[3]　半導性チタン酸バリウム焼結体におけるPTC効果
　　　[4]　太陽電池用CdS焼結体
　　4.1.5　吸着の影響
　　　[1]　吸着機構
　　　[2]　半導体ガスセンサー
　　4.1.6　イオン導電体，固体電解質
　　　[1]　アルカリイオン導電体
　　　[2]　Ag＋，Cu＋導電体
　　　[3]　プロトン導電体
　　　[4]　酸素イオン導電体
　　　[5]　ハロゲンイオン導電体
　　4.1.7　混合導電体
　　　[1]　酸素イオン導電体の混合伝導
　　　[2]　各種の混合導電体と応用
　　4.1.8　電子放射
　　　[1]　熱電子放射
　　　[2]　電界放射
　　　[3]　2次電子放射
　　　[4]　光電子放射
　　4.1.9　超伝導
　　4.1.10　熱電効果
　4.2　誘電特性とその材料
　　4.2.1　セラミックスの誘電性
　　　[1]　誘電定数と誘電特性
　　　[2]　微細構造と誘電特性
　　4.2.2　高周波絶縁材料
　　　[1]　高周波絶縁材料の現状
　　　[2]　IC基板・パッケージ用材料
　　　[3]　マイクロ波用誘電体
　　4.2.3　コンデンサ材料
　　　[1]　セラミックコンデンサの現状
　　　[2]　半導体コンデンサ
　　　[3]積層コンデンサ
　　4.2.4　圧電セラミックス材料
　　　[1]　圧電セラミックス材料の現状
　　　[2]　PZT，3成分系庄電セラミックス
　　　[3]　その他の庄電セラミックス
　　　4.2.4　焦電セラミックス
　4.3　磁気的性質と磁性材料
　　4.3.1　磁気の由来
　　　[1]　磁気モーメント
　　　[2]　磁気の担い手
　　　[3]　自由原子，イオンの磁気モーメント
　　　[4]　イオン結晶内の磁性イオンが担う磁気モーメント
　　4.2.3　フェリ磁性
　　　[1]　分子磁界
　　　[2]　Neelの理論
　　　[3]　超交換相互作用
　　4.3.3　酸化物磁性材料とその用途
　　4.3.4　軟磁性材料
　　　[1]　スピネル型フェライトの構造
　　　[2]　スピネル型酸化物の陽
　　　[3]　陽イオン位置の選択
　　　[4]　スピネル型フェライトの磁性
　　　[5]　Zn−フェライトの置換固溶による磁性の改良
　　　[6]　微量添加物の効果
　　　[7]　スピネル型フェライトの高周波特性
　　　[8]　マイクロ波用フェライト
　　　[9]　その他の材料
　　　(A) メモリー用フェライト
　　　(B) 磁気ヘッド用材料
　　　[10]　フェライト焼結体の製造工程
　　4.3.5　硬磁性材料
　　　[1]　マグネトプランバイト型フェライトの構造
　　　[2]　結晶磁気異方性
　　　[3]　フェライト磁石製造上の特徴
　　4.3.6　磁気バブル材料
　　　[1]　磁　　区
　　　[2]　磁気バブル
　　　[3]　要求される材料特性
　　　[4]　希土顆一鉄ガーネットの特徴
　　　[5]　LPE法による磁気バブル用単結晶膜の製造

　5.1 光学的各種機能と材料
　　5.1.1　概　　説
　　5.1.2　結晶の光学的性質
　　　[1]　直線複屈折
　　　[2]　直線複吸収（直線2色性）
　　　[3]　円複屈折と円複吸収
　　5.1.3　外力による効果
　　　[1]　電場効果
　　　(A) 電気光学効果
　　　(B) 電気吸光効果
　　　(C) 電気旋光効果と分極旋光効果
　　　[2]　応力効果
　　　(A)　光弾性効果
　　　(B)　庄旋光効果
　　　[3]　磁場効果
　　　[4]　光照射効果
　　　(A)　光屈折率効果
　　　(B)　光クロミズム
　　　(C)　光2色性
　　　[5]　非線型光学効果（NLO効果）
　　　(A)　非線型分極
　　　(B)　第2高調波発生（SHG）
　　　(C)　NLO材料
　5.2　透光性セラミックス
　　5.2.1　概　　説
　　5.2.2　セラミックス透明化の条件
　　5.2.3　透光性セラミックスの焼結プロセス
　　5.2.4　原料粉末の影響
　　5.2.5　添加物の影響
　　5.2.6　焼結条件の影響
　　5.2.7　透光性セラミックスの光透過率
　　5.2.9　透光性セラミックスの応用
　5.3　光学ガラス
　　5.3.1　光学グラスの組成
　　　[1]　古典的ガラス
　　　[2]　ランタン系ガラス
　　　[3]　特殊ガラス
　　5.3.2　光学ガラスの諸性質
　　　[1]　屈折率・分散
　　　[2]　透過率
　　　[3]　化学的耐久性（ヤケ）
　　5.3.3　光学グラスの製造法
　　　[1]　粘土ルツボ法
　　　[2]　白金ルツボ法
　　　[3]　連続溶融法
　5.4　フォトクロミックガラス
　　5.4.1　フォトクロミックグラスの種類と組成
　　5.4.2　フォトクロミズム機構
　　5.4.3　フォトクロミック特性
　　　[1]　ハロゲン化銀の大きさと数
　　　[2]　グラス厚さの影響
　　　[3]　照射光エネルギーおよび波長
　　　[4]　温度の影響
　5.5　着色ガラス
　　5.5.1　イオンによる着色
　　5.5.2　コロイドによる着色
　5.6　赤外線領域用光学材料
　　5.6.1　ガラス
　　5.6.2　結　　晶
　　5.6.3　透光性セラミックス
　　5.6.4　プラスチックス
　5.7　選択反射性ガラス
　　5.7.1　金属材料
　　5.7.2　半導体材料
　　5.7.3　誘電体材料
　5.8　電導性グラス
　　5.8.1　SnO2
　　5.8.1　In2O3
　5.9　レーザー材料
　　5.9.1　概　説
　　5.9.2　利得係数と螢光強度
　　5.9.3　むすび
　5.10　螢光体
　　5.10.1　最近の進歩
　　　[1]　�]線用蒸着螢光面
　　　[2]　カラーブラウン管用大粒子螢光体
　　　[3]　高コントラストカラーブラウン管用顔料使用螢光面
　　　[4]　高演色性螢光ランプ用螢光体
　5.11　顔料料
　5.12　レンズコーティング
　　5.12.1　概　説
　　5.12.2　反射防止膜の一般解説
　　5.12.3　単層反射防止膜
　　5.12.4　2層反射防止摸
　　5.12.5　3層反射防止膜
　　5.12.6　デイクロイックミラー
　　5.12.7　カメラへの利用
　　5.12.8　むすび

6．放射線損傷と材料

　6.1　放射線の種類と特乱および表示
　　6.1.1　種類と効果の特徴
　　6.1.2　粒子性放射線の束（フラックス）と全照射線量（フルエンス）
　　6.1.3　γ線の表示方法
　　6.1.4　中性子のエネルギーと呼称
　6.2　放射線損傷の分類
　6.3　はじき出し機構と生成する各種照射欠陥
　　6.3.1　高速中性子によるはじき出し原子（KA）とそれによる多段はじき出し（カスケード）
　　6.3.2　放射線の種類とはじき出し過程
　　6.3.3　照射欠陥の種類
　　　[1]　点欠陥とフレンケル村対
　　　[2]　熱スパイクと変位スパイク
　　　[3]　稀薄領域
　　　[4]　ポイド
　　　[5]　スエリング（ふくれ）と照射焼結（やきしまり）
　　　[6]　照射成長
　6.4　金属材料の放射線損傷
　　6.4.1　荷電粒子の作用
　　6.4.2　γ線および電子線の作用
　　6.4.3　損傷の回復
　　6.4.4　照射による機械的性質の変化
　6.5　セラミックスの放射線損傷
　　6.5.1